Громкие заявления из Китая, на тему литографии для микроэлектроники:
Китай реверс-инжинирингом воспроизвел EUV-литографию ASMLВ китайской лаборатории повышенной секретности в Шэньчжэне собран прототип установки для экстремально-ультрафиолетовой (EUV) литографии — технологии, которая сегодня определяет, кто способен выпускать самые передовые процессоры для ИИ, смартфонов и высокоточного вооружения. Как выяснил Reuters, машину построила команда бывших инженеров голландской ASML, реверс-инжинирингом воспроизведя ключевые узлы и принципы работы EUV-сканеров. Прототип уже запущен и устойчиво генерирует EUV-излучение, но работающих чипов пока не делает.
Дьявол как обычно кроется в мелочах. Даже если захантить специалистов из Голландии, для получения готового к работе изделия, необходимо собрать всю цепочку кооперации по компонентам и узлам. Поэтому на данном этапе это пока бахвальство, чем любят грешить китайские товарищи.
Что касается физики процессов, немного прикоснувшись к глубине процессов по лазерным и радиоэлектронным технологиям, уровень китайских специалистов уступает нашим, когда речь идёт об инновационных технологиях. Да, отладка для серии - у них высоченный уровень квалификации, и огромный объем внутреннего рынка, даёт множество преимуществ в реализации и масштабировании. Но в вопросах науки, три высших образования по Капице, роялит.
Поэтому уверен, китайцы точно сделают литограф подобного уровня, только не так быстро, как они заявляют. И есть серьезная вероятность что наши физики сделают аналогичный быстрее. Вот только для успешной реализации проекта, будет жизненно необходим большой рынок сбыта, который имеется у КНР, и отсутствует у нас. И решение этой фундаментальной задачи происходит сейчас в том числе на полях сражений в СВО.
