России разрабатывается уникальное оборудование литографии на 1-3 нанометра
Использование редкоземельных гадолиния и тербия в газообразном состоянии позволяет получить луч в рентгеновском диапазоне с длиной волны 6,7 нм. Над новой технологией работают физики из Центра Келдыша и ТРИНИТИ
Нидерландская компания ASML сегодня выпускает оборудование по производству чипов, использующее излучение с длиной волны 13,5 нм. Переход в рентгеновский диапазон позволит реализовать литографию на уровне 1-3 нм
Отечественная технология, не имеющая зарубежных аналогов, позволяет генерировать излучение рентгеновского диапазона в буферном газе — аргоне или гелии
Дай то Бог, и чем быстрее, тем лучше...
